格创东智半导体晶圆制造QMS解决方案：破局纳米级质量管控痛点，构建智能质量管理体系在半导体制造向3nm及以下制程演进的过程中，质量管控已成为决定晶圆厂核心竞争力的技术壁垒。数据显示，晶圆厂质量成本（COQ）占营收比重可能高达12%-18%。在此背景下，传统质量管理模式已难以应对纳米
【聚焦】集成电路制造向极微观尺度迈进 纳米线宽标准物质应用需求空间广阔
纳米线宽标准物质可满足集成电路中纳米线宽的原子级准确度测量要求，应用空间广阔。 纳米线宽标准物质是用于集成电路中纳米线宽测量和校准的标准物质。标准物质（RM）是具有均匀性和确定性的特性量值，用于物质赋值、校准仪器和评价检测方法或仪器性能的物质
Dolphin Design宣布首款支持12纳米 FinFet技术的硅片成功流片
这款测试芯片是业界首款采用12纳米FinFet（FF）技术为音频IP提供完整解决方案的产品。该芯片完美结合了高性能、低功耗和优化的占板面积，为电池供电应用提供卓越的音质与功能。这款专用测试芯片通过加快
5nm、7nm弯道超车别想！佳能纳米压印“光刻机”无法出口中国 美国封杀
快科技11月9日消息，据外媒报道称，佳能CEO Fujio Mitarai透露，公司的新纳米压印技术将为小型半导体制造商生产先进芯片开辟一条道路，但不会卖给中国厂商。 由于该设备可以用于制造5nm尖端制程芯片，且不是基于光学技术，引起了中国厂商的兴趣，但可能无法实现
【洞察】纳米压印技术（NIL）在芯片制造领域应用前景较好 我国市场参与者众多
在芯片制造领域，与传统光刻技术相比，纳米压印技术具有生产效率高、制造成本低等优势，可用于制造DRAM、3D NAND等各种储存芯片。 纳米压印技术（NIL）指将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术，属于新型微纳加工技术
