显示玻璃技术革新：半导体封装的新材料选择
2025-02-22
猜你喜欢
-
台积电14nm制程技术重磅发布：引领半导体行业新纪元
在全球半导体行业的激烈竞争中，台积电最新宣布的1.4纳米制程技术，无疑是一剂强心针。这项技术的推出将标志着制造业中的一项重大突破，同时进一步巩固了台积电在先进制程领域的领导地位。随着市场对智能设备性能要求的不断提升，1.4纳米制程技术的落地预计将推动相关产品如智能手机、高性能计算机等的性能大幅提升，改变现有市场格局... -
10nm制程“难产” 高通华为联发科很伤脑筋！
不论什么产业，什么社会，对于资源的争夺都是永无止境的各行各业都一样，只不过这种争夺，在手机芯片厂商看来，显得更为沉重。 昨天搞机先驱就跟大家讨论过，一款Soc的好坏，不但但取决于制程工艺，和架构、主频、后期优化也有关。但这并不代表先进的制程就是多此一举，事实上，同等情况下，芯片的制程越先进，单位面积内能够承担的晶... -
效率提升10倍！美国推动下一代EU光刻技术发展
美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）牵头推动下一代EU光刻技术的发展，目标是将光源效率提高约10倍。 02LLNL进行的概念验证激光演示表明，新型BAT激光器将提高EU光刻源的能源效率。 03该项目还将调查利用新型拍瓦级BAT激光器技术，以提高现有用于半导体生产的EU光刻源的能源效率。 04除此之外，LL... -
9200MTs的DDR5面世：采用EUV光刻技术
美光科技公司宣布已率先向生态系统合作伙伴和特定客户交付基于1γ(1-gamma)、第六代(10nm级)DRAM节点的DDR5内存样品。 2.16Gb DDR5产品具备高达9200MT/s的速度，相较于前代产品，速度提升15%，功耗降低20%以上。 3.美光的1γ工艺节点采用极紫外(EUV)光刻技术，每片晶圆比特...
