网站首页
关于pg
核心技术
媒体资源
产品与解决方案
先进光刻技术
纳米制程优化
高性能CPU设计
AI与数据中心解决方案
公司动态
行业资讯
新闻中心
加入我们
联系我们
『公司动态』PG电子(中国官方网站)在半导体领域的最新动态,包括技术突破、产品发布及公司活动,见证我们如何推动行业发展。
首页
>
公司动态
>
行业资讯
光刻胶 - OFweek显示网
2025-03-23
上一篇:宝馨科技(002514SZ)携手金资成立合资公司光刻大佬入局
上一篇:哈工大拿下光刻机核心技术中国芯片或将改写世界格局
猜你喜欢
热门科技梳理:光刻机概念+纯血鸿蒙+华为昇腾+华为基站概念
长鑫存储获光刻设备专利助力智能设备市场变革
PG电子平台 PG电子网站2025年2月21日,长鑫存储技术有限公司在全国知识产权局获得了一项名为光刻设备的专利,公告号为CN114488711B。这一新专利的获批标志着长鑫存储在半导体制造领域的重要进展,尤其是在高性能存储器及其智能设备应用的技术创新上。长鑫存储自2017年成立以来,注册资本高达238亿元人民币,...
台积电14nm制程技术重磅发布:引领半导体行业新纪元
在全球半导体行业的激烈竞争中,台积电最新宣布的1.4纳米制程技术,无疑是一剂强心针。这项技术的推出将标志着制造业中的一项重大突破,同时进一步巩固了台积电在先进制程领域的领导地位。随着市场对智能设备性能要求的不断提升,1.4纳米制程技术的落地预计将推动相关产品如智能手机、高性能计算机等的性能大幅提升,改变现有市场格局...
突破性进展:EUV光刻技术推动半导体行业的未来
在现代科技的推动下,人类社会迎来了前所未有的智能化浪潮,而这个浪潮的核心之一便是半导体技术。2012年,ASML公司开始全面部署极紫外(EUV)光刻技术,这项被视为半导体制造的未来技术,正在悄然改变整个行业的格局。EUV光刻的基础在于使用极短波长的光进行芯片制造,这使得在微米级别下形成复杂的电路图案成为可能,这不仅...
手机扫一扫添加微信