一种新型光刻技术突破EUV极限
2025-04-23
猜你喜欢
-
2纳米量产竞赛：全球半导体巨头并立的新格局
-
光刻设备上市公司概念龙头股名单快收藏！（名单）（202533
-
光刻机产业深度系列专题报告（一）：“进制程关键步骤半导体设备
今天分享的是：光刻机产业深度系列专题报告（一）：“进制程关键步骤，半导体设备明珠，光刻机市场迎国产化机遇 该报告聚焦光刻机产业，深度剖析其在半导体领域核心地位、市场格局及国产化机遇。光刻为芯片制造关键，借摩尔定律驱动，经缩短光源波长、增大数值孔径、优化光刻工艺因子提升分辨率，28nm 节点为性价比分水岭。光刻机系... -
真的造出来了！中国光刻机历史性突破中科院突破193纳米全固态
在全球芯片产业的激烈角逐中，荷兰ASML公司凭借先进光刻机技术长期独占鳌头。 国际光电工程学会（SPIE）网站近期发布的一则消息，让这个局面出现了转机：中国科学院成功研发出全固态深紫外（DUV）激光技术，实现193纳米波长突破。 这一重大进展不仅标志着中国在高端光刻机核心技术上取得突破性进展，更预示着全球半导体...
