券商：光刻机产业迎来黄金加速期 国产替代进程提速！国金证券发布研报指出，pg电子官方网站光刻机作为晶圆制造最核心的设备之一，目前国产化率不足5%。然而，国内产业链在光学系统、光源及双工件台等关键环节已实现技术突破。随着工信部将KrF/ArF光刻机列入《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录》，国产替代进程有望加速。建议关注核心部件供应商如汇成真空。
光刻机是半导体制造领域中技术难度最高的设备之一，当前国产化率最低。全球市场主要由ASML、Nikon和Canon主导，其中ASML在高端EUV光刻机领域占据绝对优势。中国是ASML最大的客户，但由于海外制裁加剧，核心科技受制于人，国产替代势在必行。
光刻机的主要组成部分包括光学系统、曝光光源系统、双工作台等。光学系统是最核心的部分，通常由15到20个直径为200到300毫米的透镜组成，用于补偿光学误差。ASML的光学部件主要由蔡司供应，尤其是EUV光学部件。虽然国产超精密光学部件已实现突破，但与蔡司相比仍有较大差距。
光源也是光刻机的核心之一，其波长直接影响工艺能力。目前主流的曝光光源波长从g线纳米）、i线.5纳米）。双工件台系统则是承载和移动晶圆的关键子系统，通过两个完整晶圆台的协同工作，大幅提高了光刻机的产能。
相关供应链企业正在努力攻克难关，产业进展有望迎来加速期。自02专项以来，以上海微为代表的公司在部分制程上取得显著成绩，完成了终端的零到一突破。在高端整机环节，国产KrF及ArF光刻机已被明确列入工信部发布的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录》。
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