是否在建立微细光刻制程时因为制程工序多而对成本有所担忧？或者在建立新布线工程时面临无法提高良率的问题？您的烦恼都能通过JSR材料来解决！
产品种类丰富，可满足各种工艺需求。产品包括：用于离子注入、栅极和配线工艺图案的光刻胶，用于CMP工艺的研磨液和清洗剂，以及用于封装各个工艺流程的临时键合材料、厚膜加工用光刻胶和感光性绝缘膜材料等。
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在自有设备上模拟重现客户的半导体工艺，快速有针对性的推荐相应材料以及制造工艺条件。
例如使用涂层型SOC（碳膜）或涂层型SiARC（硅膜），则只需使用涂层装置即可成膜。
我们致力于提高良率，即使是0.1%的良率提升，也会对成本和产量带来可观的改善。
JSR 充分利用专业知识来减少影响产量的关键缺陷，从而为提高客户的产量做出贡献。
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JSR自1979年4月开始销售光刻胶以来，以满足半导体行业的需求为宗旨，40多年来不断的向全球客户提供光刻材料、CMP材料和封装材料。 JSR在致力于解决全球客户问题的同时，半导体材料的销售额也随之稳步增长。
我们将继续以在日本开发的技术为基础，应对各种半导体工艺上的课题挑战，为半导体市场的增长做出重大贡献。
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