哈工大重大突破！成功攻克EUV光刻机技术
2025-04-07
猜你喜欢
-
哈工大立大功！突破光刻机技术中国芯片或将彻底破局？
PG平台 PG电子PG平台 PG电子在2024年的岁末，科技界传来了一则振奋人心的消息：哈尔滨工业大学（哈工大）成功研发出中心波长为13.5纳米的极紫外光技术。这一里程碑式的突破，不仅标志着中国在光刻机技术领域取得了重大进展，更为打破中国芯片制造困境和破局带来了前所未有的希望。 光刻机，这个听起来似乎有些陌生的名... -
ASML独占鳌头多年中国光刻机突围之路能否成功？
pg电子平台官网。光刻技术作为半导体制造的核心，直接决定了集成电路的精度、性能与能效，而光刻机则是这一切的基础。中国在这一领域的进展，不仅标志着技术自主化的步伐，也反映了其在全球半导体产业中崛起的潜力的自主研发方面，中国已经取得了显著进展，逐步走向与国际先进水平对接的道路。尽管在最尖端的极紫外（EU）光刻机技术上还... -
台积电：亚利桑那州第一家晶圆厂4纳米制程第四季度开始量产
PG平台 PG电子官网PG平台 PG电子官网【台积电：亚利桑那州第一家晶圆厂4纳米制程第四季度开始量产】财联社1月16日电，台积电CEO表示，亚利桑那州第一家晶圆厂4纳米制程第四季度开始量产，第二和第三晶圆厂已开始步入正轨。日本晶圆厂于2024年底开始批量生产，产能状态良好。 激战库尔斯克战场！俄军从天然气管道钻... -
国产光刻机的崛起：中国半导体新篇章国产高端光刻机的成功研制
在全球化的科技竞争中，光刻机技术无疑是半导体制造领域的核心。近期，我国工信部宣布了一个振奋人心的消息：我国已成功研发并投入使用国产高端光刻机。 这一成就不仅是技术突破的象征，更是国家科技实力的体现，标志着我国在高科技领域实现了从追赶到领先的跨越。 光刻机技术，被誉为半导体制造中的“王冠上的明珠”，其高精度和高要...
