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哈工大EUV光刻机突破!新加坡学者:只要成功芯片战就会结束

2025-04-14  

  近期一位新加坡知名投资专家说出了颠覆性言论,他认为中芯国际必将追上台积电。

  新加坡毕盛资产管理(APS)的王国辉,在彭博电视台接受专访时,抛出了一个极具震撼力的观点。

  他笃定地认为,中芯国际的市值是500亿美元,虽然目前比起3000亿美元的台积电很悬殊,但中国一定能追上去。

  他认为中国拥有充足的资金支持,大量的技术人才,能支撑起中芯国际不断地研发探索。

  然而,在他看来中芯国际目前仍有一块短板,那就是缺少一台至关重要的 EUV 光刻机。

  他还大胆断言,一旦中国自主研发出 EUV 光刻设备,这场旷日持久的芯片战争便会直接结束。

  这番言论一出震惊了许多网友,这EUV是什么东西,能发挥出如此至关重要的作用?

  在芯片制造的“小世界”里,想要在小小的硅片上蚀刻出极为精细复杂的电路图案,光刻技术起着决定性作用。

  而EUV光刻技术,使用的是波长极短的13.5纳米极紫外光,能够实现更高的分辨率和更小的芯片特征尺寸。

  美国和荷兰深知EUV光刻技术对于芯片产业的重要性,为了维护自身在半导体领域的领先地位,对中国实施了严格的技术封锁。

  美国联合荷兰禁止向中国出口EUV光刻机以及相关的关键技术,想以此卡住中国芯片发展的脖子。

  就在中国芯片产业面临巨大挑战之时,2024年12月30日,哈工为我国芯片产业送上了年终贺礼。

  哈工大成功研发出13.5纳米极紫外光源技术,这一突破犹如一道曙光,让我国高端芯片产业看到了希望。

  同时,哈工大这次的技术突破,可不只是简单的成功,而是开发了一条全新的道路。

  美国Cymer公司采用的是传统的LPP技术,即激光等离子体极紫外光源技术,而荷兰则主要通过透镜技术获得极紫光。

  哈工大另辟蹊径,采用的是DPP技术,也就是放电等离子体极紫外光刻光源技术。

  它的能量转换效率更高,意味着能够以更少的能源消耗产生更多的极紫外光;成本更低,这对于大规模的芯片制造而言能大大降低生产成本。

  难度方面哈工大给出的结论是适中,在保证技术先进性的同时,也为后续的进一步优化和产业化应用提供了不错的前景。

  极紫外光源是EUV光刻设备的核心部件之一,哈工大攻克了这一关键技术难题,等于把最难啃的一块硬骨头给克服了。

  不过,我们也必须清醒地认识到,虽然哈工大在极紫外光源技术上取得了重大突破,但距离成功研发出完整的EUV光刻设备,我们还有一段路要走。

  想要造出一台EUV光刻机,我们还需要攻克物镜系统、双工件台、控制系统等。

  在物镜系统方面,荷兰ASML使用的是来自蔡司的光学物镜PG平台 PG电子系统,其在光学精度和成像质量上都达到了极高的水平。

  而在双工件台和控制系统方面,也需要具备极高的精度和稳定性,以确保光刻过程的高效、准确进行。

  比如对光源稳定性的提升,只有保证光源输出长时间稳定,才能确保光刻过程不会出现参差不齐的现象。

  系统优化也是关键,需要对整个光源系统进行全面的优化,提高光刻机的综合性能。

  这些都做好之后,我们需要做的就是将其商业化,让它能从实验室顺利走向生产线。

  王国辉的看法很有真知灼见,EUV光刻机的确是中国芯片产业当下急需的设备。

  如果未来我们自主研发出了堪比世界顶尖水平的EUV光刻机,能结束这场芯片战争吗?

  答案是能,只要中国能自主研发出EUV光刻机,这场由美国挑起的芯片战争就会宣告终结。

  当中国自己能生产后,设备成本、维修成本都会降,芯片在全球卖的时候价格就更有优势,能抢占市场。

  等我们研发成功并大规模生产后,这些外国企业的蛋糕就会被分走,无法再形成垄断局面。

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