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台积电A14制程不采用High - NA EUV技术计划2028年投产

2025-05-02  

  【TechWeb】台积电业务开发资深副总裁张晓强对外宣称,台积电A14制程不会采用High - NA EUV技术。据悉,该制程不引入High - NA EUV光刻技术,仍会坚持使用原有的EUV光刻设备。台积电坚信,即便没有High - NA EUV光刻设备,A14制程也能够达成性能、密度、良品率等方面的目标。

  资料表明,pg电子 pg官方A14作为台积电的下一世代制程技术,属于台积电1.4nm级半导体工程,其表现显著优于当前已商用的3nm工艺以及即将商用的2nm工艺。台积电公布的数据显示,和N2工艺(2nm)相比,A14在相同功耗的情况下能实现高达15%的速度提升,或者在相同速度时降低高达30%的功耗,并且逻辑密度会提升20%以上。

  按照台积电的规划,A14计划于2028年投产。除了A14,台积电还规划了A14P、A14X、A14C等多个衍生版本。

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