『公司动态』PG电子(中国官方网站)在半导体领域的最新动态,包括技术突破、产品发布及公司活动,见证我们如何推动行业发展。

  • 哈工大突破EUV光源技术后美国紧急研发新光源技术!妄想淘汰EUV

     声明:本文内容均有权威信源,结合个人观点撰写,相关信源在文章结尾和文中截图  随着科技不断进步,全球对高精度芯片制造的需求日益增加,极紫外光刻技术作为关键技术,已成为全球科技竞争的焦点。  多个国家争先恐后地投入巨资、投入科研力量,旨在掌...

    2025-03-15

  • 美国商务部长宣布美国本土首次制造出了领先的 4 纳米芯片

     PG平台 PG电子PG平台 PG电子据新加坡《联合早报》、路透社等媒体 1 月 11 日报道,美国商务部长吉娜・雷蒙多(Gina Raimondo)告诉路透社,台积电已开始在亚利桑那州凤凰城附近的 Fab 21 工厂使用其 4 纳米级工艺...

    2025-03-14

  • 大陆成熟制程崛起台湾要联手应对?

     PG平台 PG电子PG平台 PG电子最近美国对中国内地的半导体产业祭出301条款,目标锁定的是半导体的成熟制程。成熟制程的定义有点模糊,总之是以中国能做到的制程节点为依归,所以广义的是15纳米,狭义的就是7纳米米。  个人在2022年5月...

    2025-03-14

  • 如果说7nm是制程工艺物理极限 那么1nm是什么概念?

     PG平台 PG电子适用了20余年的摩尔定律近年逐渐有了失灵的迹象。从芯片的制造来看,7nm就是硅材料芯片的物理极限。不过据外媒报道,劳伦斯伯克利国家实验室的一个团队打破了物理极限,采用碳纳米管复合材料将现有最精尖的晶体管制程从14nm缩减...

    2025-03-14

  • 卡尔蔡司SMT推出半导体光刻设备新专利推动行业技术革新

     近日,卡尔蔡司SMT有限责任公司获得了一项重要专利,专利名称为“半导体光刻的具有改进的部件调节的投射曝光设备,以及调节方法”,公告号为CN111602091B,申请日期为2018年12月。这一专利的获得标志着光刻技术在半导体生产中的进一步...

    2025-03-14

  • 盘点那些火热科技:光刻机、鸿蒙系统、昇腾、华为基站背后的故事

     PG电子平台 PG电子网站PG电子平台 PG电子网站随着科技发展的脚步越来越快,大家都开始关心一个词儿:“光刻机”、“鸿蒙系统”、“昇腾芯片”和“华为基站”等等。这些技术不止是个新鲜玩意儿,更是代表了未来的方向。咱今儿就一起来捋一捋这些热...

    2025-03-14

  • 太牛了!哈工大官宣搞定135nm极紫外光源EUV光刻机迎来曙光

     制造芯片离不开光刻机,芯片制程越先进,对光刻机的性能要求也就越高,相应的,制造光刻机的难度也随之增大。  光刻机作为芯片生产的关键设备,被视为国家战略重器之一。它分为EUV和DUV两种类型。EUV光刻机的制造技术要求尤为严格,这属于我国技...

    2025-03-14

  • 英特尔发布 10 纳米制程强调效能领先台积电与三星

     随着在晶圆代工领域的竞争对手台积电与三星,均已陆续进入 10 纳米制程技术领域。因此,半导体大厂英特尔 (intel) 也不甘示弱,在 19 日于中国北京所举办的尖端制造大会上,正式公布了自家的 10 纳米制程技术,以及全球首次对外展示的...

    2025-03-13

  • 台积电美国工厂正式投产4纳米芯片2025上半年将迎来大规模量产

     在全球半导体产业雪崩般变化的今天,台积电(TSMC)在美国亚利桑那州凤凰城的芯片制造厂终于迎来了值得瞩目的发展。这座备受期待的工厂近日正式启动了4纳米芯片的生产线,标志着台积电在美国本土首次进行先进芯片的大规模制造。这一里程碑式的进展不仅...

    2025-03-13

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