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华大九天申请一种基于OPC技术的光刻图像修正方法专利有效解决相关技术问题

2025-01-08  

  金融界2025年1月8日消息,国家知识产权局信息显示,上海华大九天信息科技有限公司申请一项名为“一种基于OPC技术的光刻图像修正方法、装置及存储介质”的专利,公开号CN 119247685 A,申请日期为2024年11月。

  专利摘要显示,本实施例提供的方案中一种基于OPC技术的光刻图像修正方法、装置及存储介质。其方法通过光刻成像模型拟晶圆不同跨层曝光过程,获取每层材料光刻图像的预测结果;将目标版图作为光刻成像模型的输入,进行OPC修正,对预测结果进行修正,输出修正后的Mask版图文件;通过OPC verify设立检查项,对修正后的Mask版图文件进行像素点EPE检查以及修正后的Mask的准确性检查输出最优修正后的Mask版图文件。有效解决了如何减小CD Loss以及有效减小人工修正方式造成的Short风险的技术问题。

  天眼查资料显示,上海华大九天信息科技有限公司,成立于2020年,位于上海市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本200005.62万人民币,实缴资本168005.62万人民币。通过天眼查大数据分析,上海华大九天信息科技有限公司共对外投资了2家企业,参与招投标项目25次,专利信息40条,此外企业还拥有行政许可8个。

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