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中国在极紫外光刻机技术上迎来重大突破引发全球科技圈关注

2025-06-11  

  哈尔滨工业大学赵永鹏教授团队2025年一月3日成功研发出波长为13.5纳米的极紫外光源,这是EUV光刻机至关重要的核心技术。这一突破性进展意味着中国在EUV光刻机领域取得了巨大迈进,减少对国外的技术依赖成为可能。

  据了解,该技术基于创新的放电等离子体方案设计,相较于传统技术,具有更高的效率与精度,展现了诸多独特优势。尽管如此,从技术成果到EUV光刻机的规模化生产,仍然面临重重挑战。

  外媒预计,若一切顺利,我国有望在2026年实现EUV光刻设备的量产,为国内的半导体产业长期发展提供强有力的技术支撑。

  攀登了一个新高峰,不需要有毒气体,不需要那么高的成本,不需要那么大的体积,不需要那么精细的维护,固态极紫外线光源诞生了 ,攻关虽然千辛万苦但能为国家民族做出这样的成绩和贡献是多么的光荣啊!也使我们为有自己这样优秀的科学家感到骄傲!

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