网站首页
关于pg
核心技术
媒体资源
产品与解决方案
先进光刻技术
纳米制程优化
高性能CPU设计
AI与数据中心解决方案
公司动态
行业资讯
新闻中心
加入我们
联系我们
『公司动态』PG电子(中国官方网站)在半导体领域的最新动态,包括技术突破、产品发布及公司活动,见证我们如何推动行业发展。
首页
>
公司动态
>
行业资讯
消息称台积电计划明年2纳米月产能扩产至10万片
2025-07-22
上一篇:美国战略研究中心:中国的光刻机落后严重远差于ASML和日本尼
上一篇:半导体行业研究周报:半年报业绩预告总结及展望关注下半年旺季下
猜你喜欢
中国光刻机“破局之路”国产替代加速下的挑战与机遇
截至2025年3月,中国光刻机研发在技术突破、产业链协同和政策支持等方面取得一定进展,但在高端光刻机领域仍面临显著挑战。 中国已成功研发出28nm工艺的深紫外(DUV)光刻机,并进入小规模量产阶段。该技术通过多重曝光工艺(如SAQP)可延伸至10nm甚至7nm制程,满足国内70%以上的芯片需求。例如,中芯国际利用...
EUV光刻设备即将在日本引进半导体产业迎来新机遇
2024年初,随着市场消息的不断传出,日本的半导体产业即将迎来一场华丽的技术变革——极紫外(EUV)光刻设备即将登陆日本。此次引进将由东京千代田区的Rapidus公司负责,其位于北海道千岁市的工厂将成为第一座拥有EUV光刻设备的日本工厂。这一举措不仅标志着日本半导体制造能力的一次重大提升,也为全球半导体市场注入了新...
国产EUV光刻机突破即将试产!良率可达70%
ASML获石墨烯表膜光刻设备专利引领半导体制造新革命
2025年2月18日,来自金融界的消息显示,ASML荷兰有限公司成功获得了一项名为“石墨烯表膜光刻设备”的专利,授权公告号为CN111836681B,这项技术的申请始于2019年2月。这一创新专利不仅为ASML在全球半导体市场的竞争力提供了新的助力,同时也预示着石墨烯材料在电子制造领域的潜在变革。 石墨烯,作为一...
手机扫一扫添加微信