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华虹半导体取得改善光刻机硅片背面静电分布方法专利

2026-02-07  

  pg官方电子国家知识产权局信息显示,华虹半导体(无锡)有限公司取得一项名为“改善光刻机硅片背面静电分布的方法”的专利,授权公告号CN114007320B,申请日期为2021年11月。

  天眼查资料显示,华虹半导体(无锡)有限公司,成立于2017年,位于无锡市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本253685.180069万美元。通过天眼查大数据分析,华虹半导体(无锡)有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目2944次,专利信息1986条,此外企业还拥有行政许可117个。

  声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

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