pg电子官方网站就在3月25日，中科院公布消息，研发出新技术，能够生产3nm级别芯片的全新光刻机光源。
众所周知，光刻机是生产芯片的核心设备，而光刻机使用的光源，又是光刻机的核心技术。
一种是DUV光源，能生产7nm以下的芯片，另一种是EUV光源，最高能够生产2nm级别的芯片。
前者DUV光源，多个国家都掌握了这一项技术，而DUV光刻机也不受美国限制，能够自由出口中国。
不过这种光刻机虽然是目前最常用的光刻机，但却不是最先进的，生产不了目前高通的顶级芯片。
而后者EUV光源光刻机虽然能够生产最顶尖的芯片，然而，这种技术却完全被美国资本所掌控。
也正是因为这个原因，最顶尖的EUV光刻机ASML才不能卖给我们，因为美国用专利技术限制住了ASML出售。
而这次中科院公布的这一项全新的光源技术，虽然还是DUV光源，但通过全新的方法，可以生产3nm制程的芯片。
尽管还比不上EUV光源的2nm制程，但是这种级别的芯片，对于现在的科技来说已经足以生产市场上需要的顶尖芯片。
可以说，这项技术的价值，比起前段时间被吹嘘的新凯来的多款设备，丝毫不差，甚至还要更好。
也正因为这一项技术的价值，在中科院这一消息发出来的时候，在网络上引起不少网友的庆祝。
毕竟，自从中美科技战开始，芯片就成了美国卡中国脖子的一大武器，不管什么什么事情，美国都可以拿着芯片来威胁。
不过，幸运的，尽管光刻机出口被美国卡脖子了，但是在涉及军工、无人机等领域的芯片上，倒是不需要顶尖芯片。
但是，芯片总归是工业树上的集大成之作，真正要走到最顶尖的精密工业产品，也是离不开芯片的。
但是，我们需要知道的是，尽管在光源上实现了突破，但从实验室到工厂这期间的过程，并不容易。
不是说，我们研究出来了这一项技术，它就能够迅速应用到实际的光刻机制造上面去。
甚至说，从实验室到生产这中间的过程，某种程度上来说可能比研发全新技术还要困难。
即便是能够走出实验室，但是光刻机是一台非常非常精密的设备，光源是核心不错，但是其他方面的技术也是极为重要的。
去年，ASML总裁在讲话中明确表示，尽管中国在半导体领域取得了不少成绩，但距离业内领头羊还有十几年的路要走。
身为ASML总裁，对于光刻机的了解自然不是一般人能比的，即便是中国业内专家，也不敢保证能比他更了解光刻机。
即便是这位总裁对于中国人的能力不了解，差距说的太大了，但是至少数年的差距，依旧是现在难以逾越的。
作为参考，从ASML建厂开始，到现在成为近乎垄断性的企业，即便是有着多个国家顶尖企业的通力支持，ASML也用了20多年。
要知道，ASML尽管是荷兰企业，但却是由美、日、韩、欧等几乎全部世界上的顶尖半导体企业共同扶植出来的公司。
他们完成EUV光刻机制造，都需要至少20年时间，由此可见，中国想要达到光刻机顶尖领域的难度有多高。
即便这段讲话来自去年，即便中国今年在半导体上有了巨大的进步，但是依然不足以拉平中国与世界一流几十年间拉开的差距。
不过，伴随着我们在尖端半导体上的巨大进步，这位总裁其实也是越来越坐不住了。
营收下滑导致研发经费减少，进而导致ASML的研究能力减弱，让它和其他光刻机企业之间的差距逐年减少。
另一方面，ASML也很清楚的直到中国作为一个用60年就超越诸多发达国家，在科技领域已经于美国平分秋色的国家的研究能力有多强。
限制打压对于其他国家或许有用，但是对于我们的作用近乎于没有，反倒会成为推动科技发展的动力。
ASML正是深知这一点，所以才会在美国要求禁止中国购买光刻机的时候，极力反对美国的政策。
然而，ASML身为一家企业，对于美国的整体利益，也没有太好的办法，只能看着中国一步步崛起，自己一步步落后。
[1]官方媒体：新华每日电讯2025-3-28《中国科学院成功研发全固态DUV光源技术，可发射193nm相干光，有望生产3nm。》
[2]官方媒体：东南早报 2025-3-28《中国科学院成功研发全固态DUV光源技术，能将半导体工艺推进至3nm。》
