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国产DUV光刻研发成功 3nm制程可以量产了
中国科学院近日宣布在激光技术领域取得重大突破，成功研发出固态深紫外（DUV）激光源。这款创新性的激光源能够发射出与当前主流DUV曝光技术波长相同的193纳米相干光，为半导体工艺提升至3纳米节点提供了有力支持。PG平台 PG电子官网 据了...
2025-03-27
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iPhone 18首发！苹果A20芯片基于台积电2nm制造：良率远超预期
快科技3月24日消息，分析师郭明錤再度重申，2026年的iPhone 18系列将首发A20处理器，这颗芯片将会使用台积电2nm工艺制程。他表示，台积电2nm试产良PG平台 PG电子率在3个多月前PG平台 PG电子就达到60%-70%，现在...
2025-03-26
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台积电2纳米工厂提前扩产有隐情？台媒：为应对外界关于台积电变成“美”疑虑
【环球时报特约记者 陈立非】一直以来，台积电2纳米技术进展备受关注。据最新报道，该技术即将进入全面生产阶段。岛内媒体普遍分析认为，这是台积电在加大赴美投资的同时，为了消除外界对于其产能外流的疑虑而采取的举措。 台湾《工商时报》24日报道...
2025-03-26
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中科院突破！新DUV光刻机方案能否绕开欧美技术封锁？
在半导体产业的庞大版图中，光刻机无疑占据着举足轻重的地位，它被视为芯片制造领域的核心设备。 尤为值得关注的是，中国光刻机技术与全球顶尖水平相比，确实存在一定的差距，这一差距甚至可以追溯到数年甚至十数年前。目前，国际巨头ASML已经掌握了...
2025-03-26
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光刻机概念——年度净利润预增的5家企业
光刻机制造芯片等半导体器件的核心设备，被称为“半导体工业皇冠上的明珠”，是人类迄今为止所能制造的最精密装备之一，其研发过程不仅技术难度极高，还面临着多方面的挑战。 光刻机是一种利用光学成像原理，将掩膜版上的集成电路图案转移到半导体晶圆表...
2025-03-26
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台积电2纳米制程技术突破良率超过60%
2纳米制程技术虽然还未正式进入大规模生产阶段，但台积电（TSMC）已经在为3纳米“N3P”技术的客户做准备，并且其下一代制程技术的试产结果超出了预期。 最新显示，台积电2纳米制程的试产良率已经超过了60%，这对于一个尚处于早期阶段的项目...
2025-03-25
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iPhone 18机型的A20芯片将采用台积电的2纳米工艺生产
据悉，供应链分析师郭明錤重申，iPhone 18机型中的A20芯片将采用台积电的2纳米工艺生产。 郭称，台积电试生产的2纳米芯片目前已经达到了超过60%-70%的成品率。 此前六个月内，郭首次表示A20芯片将使用2nm工艺，PG平台 ...
2025-03-25
