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河北：科技特派团助力企业攻克关键技术难题216项！
优营商环境 强发展信心·数读变化丨科技特派团助力企业攻克关键技术难题216项！“小巨人”技术创新有强援 企业是创新驱动发展的主力军。2024年，我省新增国家级高新技术企业超800家，科技型中小企业总数达2.49万家。 科技人才不足，是...
2025-02-14
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国产芯片突破：从28纳米到7纳米的崛起之路
近期，中国集成电路产业迎来了振奋人心的消息：首款7纳米芯片成功量产。这一里程碑不仅彰显了中国在半导体技术上的迅速进步，也为全球芯片产业的发展格局带来了深远的影响。从十年前仍在为28纳米制程而苦恼，到如今实现跨越式发展，中国芯片产业在短时间...
2025-02-13
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M5芯片：苹果自研芯片的最新进展
马斯克：DeepSeek只是开始，中国还将创造许多重大成果，他们有大量聪明又上进的工程师 近日，WELT经济峰会在德国柏林举行。特斯拉CEO埃隆•马斯克出席，期间谈到了中国AI初创公司DeepSeek。 马斯克称，在人类历史大部分时间里...
2025-02-13
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传台积电美国3纳米进展加快 明年展开进机
pg电子官方网站 PG平台芯片代工台积电董事会首度移师美国，由于美国总统川普上任后强调将对台半导体加征关税，外界也揣测公司是否会趁机会与美国协商，并进一步加快或扩大在美投资的步伐。 近期供应链传出，台积电美国第二座芯片厂将于明（2026...
2025-02-13
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图说光刻机的4大核心技术
7LPP工艺通过改进晶体管设计和制程技术，实现了比前代7纳米工艺更低的功耗和更高的晶体管密度。具体来说，台积电的7LPP工艺相较于10纳米工艺，可以缩小多达40%的芯片面积，速度提高20%，并降低50%的功耗。这表明7LPP工艺在性能、功...
2025-02-13
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华芯程新专利揭示光刻技术的未来挑战与机遇
近日，华芯程（杭州）科技有限公司获得一项重要专利，名为“补偿模型创建方法、光刻曝光仿真方法、装置及设备”。这一专利的获取标志着公司在半导体制造及光刻技术领域的进一步突破，预示着未来光刻技术的发展方向与潜在应用具有重大的行业影响。 自20...
2025-02-13
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江苏神州半导体申请晶圆光刻设备专利创新降温技术助力半导体制造
近日，国家知识产权局公布了一项由江苏神州半导体科技有限公司申请的专利，名为“一种半导体制造晶圆光刻设备”，公开号CN119395948A。这项专利的申请日期为2024年10月，标志着我国在半导体制造技术领域又取得了一项重要突破。 半导体...
2025-02-13
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苹果开始量产M5芯片采用台积电最新一代3nm制程工艺
美东时间2月5日，据韩国媒体ETnews报道，苹果公司的M5芯片已正式进入量产阶段，将在今年下半年登场，预计由iPad Pro首发搭载。 在制造工艺方面，M5系列芯片将采用台积电的N3P制程工艺，这也是台积电第三代3纳米制程技术，相比上...
2025-02-12
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台积电全新2纳米制程技术亮相：性能提升15%能效显著降低行业未来展望
在日前举办的IEEE国际电子器件会议（IEDM）上，台积电令人瞩目地公布了其全新2纳米（N2）制程技术的详细信息。这一技术的发布不止是半导体行业的技术革新，更是未来计算和智能设备发展的重要基石。台积电此次推出的N2制程技术，相较于前代3纳...
2025-02-12
