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本源量子申请一种光刻方法以及光刻胶掩膜专利能够减小胶大面积涂覆时应力积累而引起开裂的风险
pg电子平台官网金融界2024年11月27日消息，国家知识产权局信息显示，本源量子计算科技（合肥）股份有限公司申请一项名为“一种光刻方法以及光刻胶掩膜”的专利，公开号CN 119024645 A，申请日期为2023年5月。 专利摘要显示...
2025-01-20
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台积电2nm技术亮相：性能提升15%功耗降30%晶片价格不菲
在IEEE国际电子器件会议的聚光灯下，全球晶圆代工领域的领航者台积电，于近日揭开了其最新的2纳米（N2）制程技术的神秘面纱。这项技术的发布，无疑为整个半导体行业带来了新的震撼。 台积电所展示的2纳米制程技术，相较于其前代，实现了性能上1...
2025-01-19
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台积电宣布16纳米制程技术将在2026年底准备就绪
pg电子(中国官方网站)举行的开放创新平台（OIP）论坛上宣布，准备在2025年末开始大规模量产N2（2纳米级别）工艺，2026年底开始生产A16（1.6纳米级别）工艺。 台积电设计基础设施管理负责人Dan Kochpatcharin表...
2025-01-19
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台积电2nm制程将面世CyberShuttle为关键秘密武器
台积电2nm制程技术即将面世。据悉，台积电的晶圆共乘服务（CyberShuttle）将首度导入2nm先进制程，并规划在明年元月和4月投入设计，标志着这一技术的商业化进程正在加速推进。 台积电董事长魏哲家表示，客户对2nm的需求超过了3n...
2025-01-19
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DNP突破超2nm EU光刻光掩模技术
pg电子官方网站Dai Nippon Printing Co., Ltd.(DNP)近期在技术领域取得了重大突破，成功实现了适用于超2nm(纳米，即10^-9米)一代的逻辑光掩模所需的精细图案分辨率。这一成就为极紫外光(EU)光刻技术提供...
2025-01-19
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惠伦晶体：专注技术创新和工艺优化以降低成本提升效益
金融界12月20日消息，有投资者在互动平台向惠伦晶体提问：董秘，你好。目前三星电子通过精确控制涂布机的转速（rpm）以及优化光刻胶涂层后的蚀刻工艺，进行降低成本以及提高工艺效率。据了解：贵公司已经掌握了实现高基频、小型化的关键技术，基于半...
2025-01-19
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台积电2纳米制程启动试产预计2026年底月产能大增
近日，据台湾媒体报道，全球领先的台积电已经启动了其2纳米(N2)制程的试产工作。该制程的产能规划强劲，预计将在未来几年内大幅提升，以满足包括苹果在内的大客户对高性能 据悉，台积电已在本季度于其新竹宝山厂(Fab20)启动了2纳米制程的小...
2025-01-18
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2纳米量产竞赛 双雄并立或走向一家独大
先进制程的追求进一步强烈。随着2纳米制程接近“2025年商用节点”，外界对其的关注度也再度升温。 在日前举行 IEEE 国际电子器件会议 （IEDM） 上，全球晶圆代工巨头台积电公布了其备受瞩目的2纳米（N2）制程技术的最新细节。据其介...
2025-01-18
