2025中国半导体设备和材料展，中国企业新凯来首次亮相，引起了全社会关注，13个类别，31款产品，展示了中国半导体设备全系列的突破。这也引起了大家对于芯片设备的广泛关注，我看到两个说法，我看都有些不妥，需要指出来：
1.一种说法是中国已经研发出5nm的光刻机。其实应该没有什么光刻机叫5nm光刻机，光刻机目前主要是两大线路，一种是深紫外（DUV），它是用193nm和248nm波长的紫外线为主，生产芯片。另一种是极紫外（EUV），采用13.5nm波长的紫外线，进行光刻。尽管每一类光刻机都有很多型号，每种光刻机其实是可以多种制程芯片，比如DUV可以生产14nm的芯片，28nm的芯片，其实也可以通过工艺提升，制造7nm的芯片。
今天中国已经制造出什么水平的光刻机，这次新凯来并没有展出和宣布，从来没有官方数据出来，我们可以猜想中国光刻机已经取得了较大的突破，但是并没有5nm光刻机这个品类。
2.当然，我也看到很多人出来辟谣，他们应该是看到中国光刻机取得突破，心里很不舒服，出来辟谣，说新凯来只是展出了检测产品，这个公司只是做后端测试的，和光刻机没有什么关系。
这些人是看中国人高兴，心中就难受的不行，一定要出来泼点冷水，他们是怎么知道新凯来和光刻机没有什么关系的？
中国要解决卡脖子，我们只有一个选择，就是自己干，既然是干，就不是宣传，也不是发论文，更不是宣称达到了国际先进水平。干就是踏踏实实地做出设备，装在生产线使用。
我早说过，中国的光刻机是不会有官宣的，官宣召来更多的制裁和围堵，为什么要自己去惹这个麻烦，光刻机做出来，就是装在生产线，一点点调试，进行小批量生产，解决各方面的问题，再中批量，大批量生产，这个过程不断解决存在的问题，在原来的基础上，研发能力更强的光刻机，不断的进行技术迭代。所有的一切都是保密的，相关工作人员绝不会透露技术进展，甚至我们也不知道哪个企业在做。
真正做事，就是这样做出来的，还没做出来，就到处开发布会，到处宣传，不断说技术指标，说实话，这不是在做设备研发，这是主要为了融资，当然也可能是为了销售。
解决卡脖子的光刻机没有融资的压力，也没有市场的问题，不需要透露太多的信息，一个字“干”就行了，干出来就会有市场，也会有机会，这样的企业不仅是有商业利益，还有使命感，有民族复兴的成就感。不为人知的干着大事，中国人早有这样的传统。
光刻机是人做的，不是神做的，今天的技术、辅助能力远远超过25年前EUV光刻机的研发了，我们做只会比ASML更快，而且技术线年时间做出产品，再用一年时间不断完善，这是正常的时间轴。不是做出了DUV再做EUV，会选择先从EUV入手，甚至两个团队同时做DUV和EUV，其实技术很多是相通，并不是必须做了DUV之后，才能做EUV。
今天新凯来都已经从幕后走到了台前，我们相信，已经不再需要完全保密，而是可以用产品在市场上见了，至于是不是要开个发布会，官宣一下技术参数，这完全没有必要，今天我用华为手机，连5G都没有标，没有标几G，就是5G，用的什么芯片也没标，不说芯片了，不说的芯片就是好芯片。
到了今天这个时间节点，还想跳出来打击中国人的信心，这就太没意思了，没有官宣就没有光刻机？你做什么春秋大梦，不官宣才是干大事。
总结一下，关于光刻机，一方面不必打鸡血，更不要搞出具体的数据，这些是不可能透露出来，我们普通人没有必要知道那么多，知道了也没用。那些把数据说得越准确，就越是编的，现在不可能透露出具体的数据。
另一方面现在还想说光刻机比难100倍，10万个零件，世界各国合作，就少扯这些不着调的，光刻机就是一个设备，ASML从1996年研发EUV光刻机只花了4年时间就做出来原型机，在产业呆过的人，都知道欧洲那个效率。只要是产业界的人，无论是ASML还是台积电的，都知道中国的光刻机一定是在路上。PG平台 PG电子PG平台 PG电子
